Reaktives Ionenätzen : RIE

• Parallel Platten Reaktor mit 13.56 MHz

• gekühlte Substrat Elektrode: 275 mm

• Shower Head Gaseinlaß optimiert für RIE

• Vakuum Konzept mit hohem Leitwert

• Ätz Moden: RIE/ PE
  
  

Plasmalab System 90 Plus

Cassetten Version
(mit ECR Quelle)

Plasma Abscheidung: PECVD

• Parallel Platten Reaktor mit 13.56 MHz

• kHz und "Frequenz Mischen" optional

• geheizte Substrat Elektrode: 275 mm

• Shower Head Gaseinlaß optimiert für PECVD

• 400° C und 700° C Substrat Elektroden

• manuelle Vakuum Schleuse

• Prozessieren mehrerer Wafer/ run

• geringe Stellfläche

• voll reinraumkompatibel

• geeignet für schwere Substrate: max 2 kg, max 18 mm hoch (12 mm mit Cassette)